Плазменный очиститель (также известный как плазменный очиститель или прибор для плазменной обработки поверхностей) — это новая высокотехнологичная технология, позволяющая достичь эффекта, недостижимого при использовании традиционных методов очистки, с помощью плазмы. Плазма — это состояние вещества, также известное как четвертое состояние вещества, не относящееся к обычным трем состояниям: твердое, жидкое и газообразное. При подаче достаточной энергии газу происходит его диссоциация в плазменное состояние. «Активными» компонентами плазмы являются ионы, электроны, атомы, активные группы, возбужденные нуклиды (метастабильные), фотоны и т. д. Плазменный очиститель использует свойства этих активных компонентов для обработки поверхности образца, тем самым достигая цели очистки, нанесения покрытия и т. д.
В чем же преимущества? Во-первых, после плазменной очистки очищаемый объект становится сухим и может быть отправлен на следующий этап обработки без высыхания. Это повышает эффективность всей технологической линии; Во-вторых, плазменная очистка позволяет избежать использования вредных растворителей, наносящих вред здоровью человека, а также предотвращает проблему легкого смывания очищаемого объекта при влажной очистке; В-третьих, исключается использование трихлорэтана и других вредных растворителей, поэтому после очистки не остается вредных загрязняющих веществ, что делает этот метод очистки экологически чистым. Это становится все более важным в контексте глобальной озабоченности защитой окружающей среды; В-четвертых, плазма, генерируемая высокочастотным радиоволновым диапазоном, отличается от прямого света, такого как лазер. Плазма не обладает высокой направленностью, что позволяет ей проникать глубоко в мельчайшие отверстия и вмятины объекта, выполняя свою задачу очистки без особого внимания к форме очищаемого объекта. При этом эффект очистки этих труднодоступных мест аналогичен или даже лучше, чем при очистке фреоном; В-пятых, использование плазменной очистки позволяет значительно повысить эффективность очистки. Весь процесс очистки может быть завершен за несколько минут, поэтому он обладает высокой производительностью; Шесть, для плазменной очистки необходимо контролировать степень вакуума около 100 Па, этого условия очистки легко достичь. Поэтому стоимость оборудования для этой очистки невысока, и процесс очистки не требует использования более дорогих органических растворителей, что делает общую стоимость ниже, чем при традиционной влажной очистке; Семь, использование плазменной очистки позволяет избежать транспортировки, хранения, сброса и других мер по обработке чистящей жидкости, поэтому производственную площадку легко содержать в чистоте и санитарных условиях; Восемь, плазменная очистка может применяться независимо от обрабатываемых объектов, она может работать с различными материалами, будь то металл, полупроводник, оксид или полимерные материалы (такие как полипропилен, поливинилхлорид, политетрафторэтилен, полиимид, полиэфир, эпоксидная смола и другие полимеры). Поэтому она особенно подходит для материалов, не обладающих термостойкостью и устойчивостью к растворителям. Она также может избирательно очищать материал целиком, частично или со сложной структурой. Девять веществ, помимо завершения очистки и дезинфекции, могут также улучшать поверхностные свойства самого материала. Например, улучшать смачиваемость поверхности, повышать адгезию пленки и т. д., что очень важно во многих областях применения.
Дата публикации: 28 марта 2023 г.
