Plasmarenser (plasma-renser), også kendt som plasma-renser eller plasma-overfladebehandlingsinstrument, er en ny højteknologisk teknologi, hvor man ikke kan opnå den samme effekt som ved konventionelle rengøringsmetoder ved hjælp af plasma. Plasma er en stoftilstand, også kendt som den fjerde stoftilstand, og den hører ikke til de almindelige tre fast-væske-gas-tilstande. En gas tilføres tilstrækkelig energi til at dissociere den til en plasmatilstand. Plasmaets "aktive" komponenter omfatter ioner, elektroner, atomer, aktive grupper, exciterede nuklider (metastabile), fotoner osv. Plasmarenserenseren bruger disse aktive komponenters egenskaber til at behandle prøveoverfladen for at opnå formålet med rengøring, belægning osv.
Så hvad er fordelen? For det første er rengøringsgenstanden tør efter plasmarensning, og den kan sendes til den næste proces uden at tørre. Kan forbedre behandlingseffektiviteten af hele proceslinjen; For det andet gør plasmarensning det muligt for brugerne at holde sig væk fra skadelige opløsningsmidler, der kan skade menneskekroppen, men undgår også problemet med vådrensning, da det er nemt at vaske rengøringsgenstanden; For det tredje undgår man brugen af trichlorethan og andre skadelige opløsningsmidler, så der ikke vil være skadelige forurenende stoffer efter rengøring, så denne rengøringsmetode hører til miljøbeskyttelsen af den grønne rengøringsmetode. Dette bliver mere og mere vigtigt i forbindelse med global bekymring for miljøbeskyttelse; For det fjerde adskiller plasmaet, der genereres af radiobølgernes højfrekvente område, sig fra direkte lys, såsom laser. Plasma er ikke særlig retningsbestemt, hvilket gør det muligt for det at nå dybt ind i de små huller og buler i en genstand for at udføre sin rengøringsopgave uden at bekymre sig om formen på den genstand, der rengøres. Og rengøringseffekten af disse vanskelige dele er den samme eller endda bedre end freonrensning; For det femte kan brugen af plasmarensning gøre rengøringseffektiviteten betydeligt forbedret. Hele rengøringsprocessen kan udføres på få minutter, så den har karakteristika for højt udbytte; for det sjette skal plasmarensning kontrollere vakuumgraden til omkring 100 Pa, hvilket gør denne rengøringstilstand let at opnå. Derfor er udstyrsomkostningerne til denne enhed ikke høje, og rengøringsprocessen kræver ikke brug af dyrere organiske opløsningsmidler, hvilket gør de samlede omkostninger lavere end den traditionelle vådrensningsproces; for det syvende undgår brugen af plasmarensning transport, opbevaring, udledning og andre behandlingsforanstaltninger for rengøringsvæske, så produktionsstedet er let at holde rent og hygiejnisk; for det otte kan plasmarensning udføres uanset behandling af genstande. Den kan håndtere en række forskellige materialer, uanset om det er metal, halvleder, oxid eller polymermaterialer (såsom polypropylen, polyvinylchlorid, polytetrafluorethylen, polyimid, polyester, epoxyharpiks og andre polymerer), der kan bruges til at håndtere plasma. Derfor er den især velegnet til materialer, der ikke er varmebestandige og opløsningsmiddelbestandige. Den kan også selektivt rense hele, dele af eller komplekse strukturer af materialet; Ni, ved at fuldføre rengøring og dekontaminering på samme tid, kan det også forbedre selve materialets overfladeegenskaber. Såsom forbedring af overfladens befugtningsevne, forbedring af filmens vedhæftning osv., hvilket er meget vigtigt i mange anvendelser.
Opslagstidspunkt: 28. marts 2023
